ICPST-32プログラム

英語のシンポジウムは英語のプログラムをご参照ください。

 

624日(水)

 

Room C (Room 303)

 

 

 

日本語シンポジウム: ポリイミド及び高温耐熱樹脂-機能化と応用

 

 

 

10:00-11:00 座長:茨城大 森川 敦司,岡山大 内田哲也

 

B1-01     トリアジン含有芳香族ポリイミドの合成と特性

 

岩手大工齋藤 友,佐々木茂子,芝崎祐二,大石好行

 

B1-02     新規フェノール樹脂,ポリベンゾオキサジンを原料とする炭素化フィルムの特性

 

豊橋技科大院環境高橋吉騎,大沢 翼,柴山裕二,松本明彦,竹市

 

B1-03     ゴム変性ポリベンゾオキサジンの合成と特性

 

豊橋技科大院環境デュイ・ゲスティ・スイタニング,勝田盛三郎,河内岳大,竹市

 

11:00-11:40 座長:岩手大 大石好行,産総研 成圓

 

B1-04     イミド変成ベンゾオキサジンの合成と硬化樹脂の特性

 

豊橋技科大院環境永田龍也,黒蕨幸作,河内岳大,松本明彦,竹市

 

B1-05     ゾルーゲル法によるポリイミド-シリカハイブリッドを絶縁層にもつエナメル線

 

茨城大工,日立電線*森川 敦司,鈴木和則*,浅野健次*

 

11:40-12:20 座長:豊橋技科大 竹市 力,首都大 川上浩良

 

B1-06     UV 表面処理法と無電解めっき技術を用いたポリイミド表面の選択的銅パターニング技術

 

産総研集積マイクロシステム研 成圓,鈴木健太,朴 相天,高木秀樹,廣島 洋,

 

前田龍太郎

 

B1-07     高空隙率・高耐熱性剛直高分子三次元架橋体フィルムの新規作製法の開発とその物性

 

岡山大院自然内田哲也,池田 稜,鈴木友章,中山遼太郎

 

 

 

12:20-13:20 昼食休憩

 

 

 

13:20-14:20 座長:横浜国大 大山俊幸,東レ 富川真佐夫

 

基調講演B1-08   高放熱絶縁材料開発とパワーモジュールへの適用

 

三菱電機先端技術総研三村研史,中村由利絵,正木元基,西村

 

14:20-15:20 座長:久留米高専 津田祐輔,旭化成 古賀壽子

 

B1-09     ポリイミドダイヤフラムマイクロポンプ機構を有するバイオ燃料電池の基礎検討

 

日大理工石田 拓真,福士雄大,西岡泰城

 

B1-10     スルホン化芳香族高分子/ポリベンズイミダゾールナノファイバーからなる新規高分子形電解質膜の燃料電池特性

 

首都大都市環境 冬,田中 学,川上浩良

 

B1-11     ハイパーブランチポリエーテルケトンとカーボンのハイブリッド材料による固体触媒反応

 

東工大院理工難波江裕太,史 穎,早川晃鏡,柿本雅明

 

 

 

15:20-15:30 休憩

 

 

 

15:30-16:30 座長:東工大 難波江裕太,日立化成デュッポンマイクロ 大江匡之

 

B1-12     不飽和長鎖アルキル基を有する紫外線照射濡れ性制御ポリイミド

 

久留米高専津田祐輔,志岐亮輔

 

B1-13     高透明感光性耐熱樹脂の屈折率制御

 

旭化成イーマテリアルズ古賀尋子,松田治美,小泉英夫

 

B1-14     側鎖にo-ニトロベンジル基を有するポリイミドの光極性変化

 

神奈川大工石田良仁,川辺優也,亀山

 

16:30-17:10 座長:神奈川大 亀山 敦,日立化成 満倉一行

 

B1-15     超低弾性率感光性ポリベンゾオキサゾール(7)

 

東邦大理石井淳一,横塚英征,加藤亜由美,長谷川匡俊

 

B1-16     Low Stress, High Modulus, Photosensitive Polyimide

 

日立化成デュポンマイクロ高橋寛子,鈴木越晴,鈴木ケイ子,大江匤之

 

17:10-17:50 座長:東邦大 石井淳一,JSR 多田羅了嗣

 

B1-17     ジアゾナフトキノン構造を導入したポリアリレートの反応現像画像形成への利用

 

横浜国大院機能発現大山俊幸,嶋田 望,高橋昭雄

 

B1-18     感光性ウェハレベルアンダーフィルの開発と実装評価

 

日立化成筑波研1,日立化成先進材料事業部2IMEC3満倉一行1,税所亮太1,牧野竜也1,畠山恵一2,峯岸和典1Teng Wang3, Robert Dairy3, Fabrice Duval3, Kenneth June Rebibis3, Andy Miller3 and Eric Beyne3

 

17:50-18:10 座長:横浜国大 大山俊幸,東レ 富川真佐夫

 

B1-19     新規フレキシブルユニット含有ポリマーを特徴とする高信頼性絶縁膜の開発

 

JSR精密電子研多田羅了嗣,石川英史,根本哲也,岡本健司,楠本士朗

 

 

 

18:00-20:00 *パネルシンポジウム(英語)*

 

“Advanced Patterning Materials and Processes: Opportunities in Sub-10nm Half Pitch

 

Patterning and beyond”

 

 

 

625日(木)

 

Room D (Room 304)

 

 

 

日本語シンポジウムプラズマ光化学と高分子表面機能化

 

 

 

9:30-12:00 座長:埼玉工大 矢嶋龍彦,岡山理大 中谷達行

 

B2-01     プラズマケミカルインジケータの変色におけるイオンと電子の作用

 

近畿大院工1,サクラクレパス2佐多平 恒成1,井原 辰彦1,大城 盛作2,中村 慶子2,伊藤 征司郎2

 

B2-02     プラズマグラフト重合法を用いた水蒸気透過膜の開発

 

東工大1,神奈川科技2大橋 秀伯1,奥田 龍太朗1,黒木 秀記2,1,山口 猛央1,2

 

B2-03     In-situ UV Absorption Spectroscopy for Detecting of Atmospheric-Pressure Plasma Generated Reactive Species Permeated Agarose Film

 

高知工科大1Univ. South Australia2Wound Management Innovation Cooperative Res. Center3Jun-Seok Oh1, Endre J. Szili2,3, Sung-Ha Hong2,3, Robert D. Short2,3, and Akimitsu Hatta1

 

B2-04     プラズマおよび紫外光照射による植物の成長促進効果とそのメカニズム

 

九大院総理工1,九大院農2()セルイノベーター3 信哉1,小野 大帝1,田代 康介2,久原 2,萩原 央子3,安田 香央里3

 

B2-13     プラズマ前処理したポリテトラフルオロエチレン板へのメタクリル酸の光グラフト重合と接着性の向上

 

日大生産工 真里枝,木村悠二,山田和典

 

 

 

12:00-13:00 昼食休憩

 

 

 

13:00-15:00 座長:静岡大院工 永津雅章,岐阜薬大 近藤伸一

 

B2-05     大気圧マイクロ波プラズマにより酸窒化されたチタン基板上で疑似体液から生成するアパタイトのX線電子分光

 

埼玉工大 金成,矢嶋 龍彦

 

B2-06     大気圧プラズマジェットによるメタクリル酸メチルの重合反応

 

日本大学生産工学部応用分子化学科岡田 昌樹,松田 滉平,佐藤 敏幸,山田 和典,松田 清美,日秋 俊彦

 

B2-07     大気圧B2H6/Heプラズマによるテフロンの脱フッ素処理

 

上智大学1,エア・ウォーター総研2古瀬 貴一1,澤田 康志2,高橋 和夫1,小駒 益弘1,田中 邦翁1

 

B2-08     カソーディックアークプラズマを用いた歯科インプラント用ta-C:H薄膜の開発

 

岡山理大工1,岡山工技セ2中谷 達行1,白石 航太郎1,國次 真輔2

 

 

 

15:00-15:15 休憩

 

 

 

15:15-17:15 座長:近畿大工 井原辰彦,東工大 大橋秀伯

 

B2-09     プラズマ遺伝子導入における細胞帯電効果のリポソームを用いた検証

 

愛媛大1,パール工業2,大阪電通大3()Y's4本村 英樹1,池田 善久1,木戸 祐吾1,2,橘 邦英2,佐藤 1,4,神野 雅文1

 

B2-10     Dynamic Behavior of Capillary Atmospheric Pressure Plasma Jet during Surface Modification of Polymer Surface

 

静大創造科技院1,インドネシア大2,静大院工3 ○Tomy Abuzairi 1,2,岡田 3Sudeep Bhattacharjee4Retno W. Purnamaningsih2Nji R. Pospawati2,永津 雅章1,3

 

B2-11     プラズマにより構築したリン脂質膜上での固定化分子間の相互作用

 

岐阜薬大1,松山大薬2,中部学院大3近藤 伸一1,鈴木 雅子1,笹井 泰志1,山内 行玄2葛谷 昌之3

 

B2-12     アンモニア水プラズマによるポリテトラフルオロエチレン表面の超親水化

 

埼玉工大 文峰1,程 1,清水 敬太2矢嶋 龍彦1,2

 

 

 

18:30-20:30 Conference Banquet at Room E(Room 103, 1F)

 

 

 

625日(木)

 

Room C (Room 303)

 

 

 

日本語シンポジウム:光機能性デバイス材料

 

 

 

9:30-10:30 座長:高分子学会フェロー 長谷川悦雄,東芝 木原尚子

 

B3-01     紫外線照射濡れ性制御ポリイミドにおける光酸発生剤の効果

 

久留米高専津田祐輔,田平みずき,篠原夏美,坂田大地

 

B3-02     高分子安定化技術を用いたノーマル・リバース両モードの光学特性を有する液晶素子

 

秋田大院資源山口留美子,後藤広一郎,櫻井慎太郎,常 暁君,友野孝夫

 

B3-03     高分子安定化強誘電性液晶における2 成分系モノマーによる高分子安定化力の制御

 

東京理科大基礎工,ジャパンディスプレイ*古江広和,長谷川 敦,宿岡 真,佐々木仁,岡真一郎*,小村真一*

 

10:30-11:50 座長:NIMS 安田 剛,高分子学会フェロー 長谷川悦雄

 

B3-04     ナノ構造を用いた有機EL素子の高効率光取出し技術の開発

 

パナソニックエコソリューションズ社松崎純平,山江和幸

 

B3-05     次世代照明に向けた高効率白色OLED デバイスの開発

 

コニカミノルタアドバンストレイヤー事業本部加藤一樹,岩崎利彦,辻村隆俊

 

B3-06     Key Materials for Highly Stable Phosphorescent Organic Light-Emitting Diodes with Reduced Amount of Emitter

 

NHK技研Hirohiko Fukagawa

 

B3-07     スピンコート法またはブレードコート法により作製した有機EL 特性比較

 

山形大院理工 昌和,大久 哲,夫 勇進,千葉貴之,城戸淳二

 

 

 

11:50-13:00 昼食休憩

 

 

 

13:00-13:40 座長 高分子学会フェロー 長谷川悦雄,東芝 木原尚子

 

基調講演B3-08   印刷電子デバイスを目指したカーボンナノチューブTFT の開発

 

NECスマートエネルギー研遠藤浩幸

 

13:40-15:00 座長 NEC 遠藤浩幸,東芝 木原尚子

 

B3-09     塗布酸化物半導体トランジスタの低温作製における焼成プロセス依存性の検討

 

産総研フレキシブルエレクトロニクス研 恵貞,小倉晋太郎,福田伸子,吉田 学,牛島洋史,植村聖

 

B3-10     銀ナノワイヤを用いたストレッチャブル電極の製作とバイオ燃料電池への応用

 

日大理工藤曲裕輔,福士雄大,西岡泰城

 

B3-11     三座配位子からなる新規メタロ超分子ポリマーの開発とエレクトロクロミック特性評価

 

NIMS電子機能材料グループ1JST-CREST2 金尾美樹1,2, 樋口昌芳1,2

 

B3-12     ポリ乳酸ファイバー膜の圧電的挙動と温度特性評価

 

産総研フレキシブルエレクトロニクス研1,豊橋技科大2,北陸先端科技大3延島大樹1,石井佑弥2, 酒井平祐3, 植村 1, 吉田 1

 

 

 

15:00-15:10 休憩

 

 

 

15:10-16:10 座長:愛知工大 竜雄,高分子学会フェロー 長谷川悦雄

 

B3-13     トリフェニルアミン系アモルファスポリマー及び非ハロゲン溶媒を用いた高信頼性バルクヘテロ接合型太陽電池の作製

 

物質研,久留米高専*安田 剛,草垣祐太郎,北原いくみ,韓 礼元, 石井 *

 

B3-14     PTB7, PC61BM, PC71BM 三元系有機バルクヘテロ有機太陽電池の研究

 

日大理工 佳宇,切石晧大,橋場康成,西岡泰城

 

B3-15     Bulk-Heterojunction Organic Solar Cells based on Benzobisthiadiazole Semiconducting Polymers

 

Tokyo Inst. Technol., Univ. Melbourne*, Yang Wang, Michael F. G. Klein*, Junya Hiroshi, Susumu Kawauchi, Wallace W. H. Wong* and Tsuyoshi Michinobu, Tokyo Inst. Technol., Univ. Melbourne*

 

16:10-18:10 座長:東芝木原尚子,高分子学会フェロー長谷川悦雄

 

B3-16     陽極通電ジュール熱による熱処理を用いたポリチオフェン:フラーレン誘導体薄膜太陽電池の特性

 

愛知工大工1,名大院工2 竜雄1,2,内藤憲樹2

 

B3-17     楕円体TiO2を光活性電極に用いた色素増感太陽電池

 

東海大院工,東海大院理* 彩希江,下山夕貴,菊池貴寛*,富田恒之*,功刀義人

 

B3-18     水溶性TiO2インクの開発とインクジェットプリンターでのパターニング

 

東海大院工加藤芳尭, 植松弘哉, 下山夕貴, 功刀義人

 

B3-19     新規な感光性低線膨張係数材料の開発

 

JSR先端材料研土井貴史,宇野高明,西村 功,林 英治

 

B3-20     マイクロ流路デバイス製作のための感光性接着剤

 

JSR先端材料研,JSR Micro* 寛仁,土井貴史,西村 功,林 英治,稗田克彦,Sara Peters*, Ruben Vanroosbroeck*

 


B3-21  フォトポリマーと有機系太陽電池

 

    メルク(株)1, Merck Chemical UK2, 川田健太郎1, 玉木浩一1, 吉崎浩樹1, グラーム・モース2,オーウエン・ロズマン2




18:30-20:30 Conference Banquet at Room E(Room 103, 1F)

 

 

 

626日(金)

 

Room C (Room 303)

 

 

 

日本語シンポジウム: 一般講演

 

 

 

9:40-10:40 座長:東京電機大 堀内敏行,大阪市大 堀邊英夫

 

B4-01     オリゴラダーフェニルシルセスキオキサン感光性組成物の特性

 

北陸先端科技大1,メルクパーフォーマンスマテリアル2 田代裕治1,2,宮里朗夫1,海老谷幸喜1

 

B4-02     希土類錯体を含む発光性ポリマーの光分解過程解析

 

北大院工 片岡央尚,大曲 駿,中西貴之,長谷川靖哉

 

B4-03     キラル分子で終端された発光性シリコンナノ粒子

 

北大院総合科学1,北大院工2,京大院工3宮野真理1,中西貴之2,和田智志1,北川裕一2,伏見公志2,森崎泰弘3,中條善樹3,長谷川靖哉2

 

 

 

10:40-10:50 休憩

 

 

 

10:50-12:10 座長:大阪市大堀邊英夫,大阪工大神村共住

 

B4-05     ポリエチレンを基板とした光電変換色素固定薄膜型人工網膜の構造と光誘起表面電位

 

岡山大院自然科学内田哲也,新田 誠,金嶋祥子

 

B4-06     光解離性高分子を固定化したタンパク質担持金ナノ粒子の開発と評価

 

神奈川大院理1MANA2,神奈川大院光機能3 山本翔太1,中西 2,山口和夫1,3

 

B4-07     回転走査投影露光による小径パイプ表面へのリソグラフィー

 

東京電機大機械堀内敏行,藤井勇人,安永かほり

 

B4-15     Controlled Polymerization of Electron-deficient Naphthalene-diimide Containing Monomer by Negishi-type Catalyst-transfer Polymerization

 

Eisuke Goto, Hideharu Mori, Mitsui Ueda and Tomoya Higashihara, Yamagata Univ.

 

 

 

12:10-13:10 昼食休憩

 

 

 

シンポジウムレジスト除去技術

 

 

 

13:10-15:00 座長:大阪市大堀邊英夫,香川高専山本雅史

 

B4-08     極低温粒子噴霧を用いた環境調和型レジストはく離システムの開発(招待講演30分)

 

東北大 流体科学研,大阪市大院工* 石本 淳,堀邊英夫*

 

B4-09     水蒸気二流体ジェットを用いたレジストの金属薄膜除去(招待講演30分)

 

静岡大院総合科学,北大院工*真田俊之,渡部正夫*

 

B4-10     オゾンマイクロバブルによるフォトレジストの除去(招待講演30分)

 

産総研1,大阪市大院工2,オプトクリエーション3高橋正好1,堀邊英夫2,松浦 昂平2,田寺克己3

 

B4-11     オゾンマイクロバブル水によるレジスト用ポリマーの分解

 

大阪市大院工1,香川高専2,産総研3,岩谷産業4松浦昂平1,西山 1,佐藤絵理子1,山本雅史2,高橋正好3,小池国彦4,堀邊英夫1

 

 

 

15:00-15:10 休憩

 

 

 

15:10-16:30 座長:大阪市大 堀邊英夫,産総研 高橋正好

 

B4-12     減圧環境下で生成した原子状水素によるレジスト除去速度の向上

 

香川高専1,静大院工2JST CREST3,北陸先端科技大4,大阪市大院工5 山本雅史1,梅本宏信2, 3,大平圭介4,長岡史郎1,鹿間共一1,西山 5,堀邊英夫5

 

B4-13     レーザー照射を用いたレジスト剥離技術の開発(招待講演30分)

 

大阪工大工,大阪市大院工* 神村共住,黒木雄太, 川崎啓太,村上巧磨,原田義之,倉前宏行,西山 *,堀邊英夫*

 

B4-14     マイクロ波励起水中気泡プラズマによる高速レジストアッシング技術の開発(招待講演30分)

 

金大サステナブルエネルギー研1,金大院自然2,大阪市大院工3 石島達夫1,伊藤卓也2,北野卓也2,田中康規1,上杉喜彦1,西山 3,堀邊英夫3

 

 以上

 

 

Final Program of ICPST-32-J
Final Program of ICPST-32-J.pdf
Adobe Acrobat Document 573.5 KB