フォトポリマー学会(SPST)組織

ICPST-34国際諮問委員会

Xavier Allonas

France

James Cameron

USA

Kilwon Cho

Korea

Banilo De Simone

Belgium

Sanjay Malik

USA

Patrick Naulleau

USA

ICPST-34組織委員会

津田 穣*

千葉大学

東 司*

東芝

一木隆範*

東京大学

上野 巧*

信州大学

遠藤政孝*

大阪大学

大北英生*

京都大学

大西廉伸*

東京大学

大山俊幸*

横浜国立大学

岡村晴之*

大阪府立大学

尾坂 格*

理化学研究所

柿本雅明*

東京工業大学

鴨志田洋一*

神奈川大学

唐津 孝*

千葉大学

河合義夫*

信越化学

木原尚子*

東芝

葛谷昌之*

中部学院大学

近藤伸一 *

 岐阜薬科大学

瀬下武広*

東京応化工業

鈴木昭太*

フジフイルム

関 修平*

大阪大学

谷口 淳*

東京理科大学

富川真佐夫*

東レ

永井智樹*

JSR

長崎幸夫*

筑波大学

永原誠司*

東京エレクトロン

長谷川悦雄*

高分子学会フェロー

平井義彦*

大阪府立大学

平山 拓*

メルクパフォーマンスマテリアルズマニィファクチャリング

堀邊英夫*

大阪市立大学

三澤毅秀*

綜研化学株式会社

水野 潤*

早稲田大学

山下 俊*

東京工科大学

渡邊健夫*

兵庫県立大学

*ICPST-34企画委員を兼ねる

 
 
 

監査  

葛谷昌之*

中部学院大学

 

 

 

現地実行委員会

 

唐津 孝

千葉大学

高原 茂

千葉大学

遠藤政孝

大阪大学

岡村晴之 

 大阪府立大学