講演募集 ICPST-34 (2017)

第34回国際フォトポリマーコンファレンスを下記の要領で開催いたします。フォトポリマーに関心をお持ちの方々は是非、御参加下さい。

 

    平成29年6月26日(月)~29日(木)

 

    千葉市美浜区中瀬2-1

幕張メッセ国際会議場 (JR海浜幕張下車徒歩5分)

 

講演内容

フォトポリマーに関する科学と技術の研究報告

A:  英語シンポジウム

A1.  Next Generation Lithography, EB Lithography and Nanotechnology

A2.  Nanobiotechnology

A3.  Directed Self Assembly (DSA)

A4.  Computational / Analytical Approach for Lithography Processes

A5.  EUV Lithography

A6.  Nanoimprint Lithography

A7.  193 nm Lithography Extention

A8.  Photopolymers in 3-D Printing / Additive Manufacturing

A9.  Advanced Materials for Photonic / Electronic Device and Technology

A10. Advanced 3D Packaging, Next Generation MEMS

A11. Chemistry for Advanced Photopolymer Science

A12. Organic Solar Cells – Materials, Device Physics, and Processes

A13. General Scopes of Photopolymer Science and Technology

P:   Panel Symposium  "EUVL insertion to HVM, and its extendability"

B日本語シンポジウム

B1.  ポリイミド及び高温耐熱樹脂-機能化と応用

B2.  プラズマ光化学と高分子表面機能化

B3.  光機能性デバイス材料

B4.  一般講演: () 光物質科学の基礎(光物理過程、光化学反応など) () 光機能素子材料(分子メモリー、情報記録材料、液晶 など)() 光・レーザー・電子線を活用する合成・重合・パターニング、() フォトファブリケーション(光成形プロセス、リソグラフィ)、(5) レジスト除去技術 () 装置(光源、照射装置、計測、プロセスなど)

 

講演時間と言語  原則として討論時間を含め20分。英語シンポジウムは英語、日本語シンポジウムは日本語及び英語

 

講演申込:学会HP(www.spst-photopolymer.org/)

[講演募集ICPST-34 →日本語会場発表申し込み]から申し込んでください。

申込締切 平成29年2月14日(火

 

論文の出版 ICPST-34論文はJournal of Photopolymer Scienceand  Technology Vol.30(2017)にJournal基準による審査を経て出版されます。 論文原稿は、Journal投稿規定に従って完全原稿を作成し、平成29年4月1日(土)までに提出して下さい。学会HPhttp://

www.spst-photopolymer.org/)[Journalà Submission& Reviewing of MS] に投稿してください。

 

出版局事務局

599-8531 大阪府立大学大学院工学研究科応用化学分野

フォトポリマーサイエンスアンドテクノロジー誌事務局

岡村晴之

Fax 072-254-9291 Tel 072-254-9291

E-mail: okamura@chem.osakafu-u.ac.jp

 

参加申込予約締切 平成29年5月31日(水)

 

参加登録方法 講演者を含む全参加者はフォトポリマー学会の学会HPhttp://www.spst-photopolymer.org/日本語ページ/参加登録/より登録ください。参加費支払は原則として郵便振替により行ってください。特別な事情があるときは振替口座への送金(ゆうちょ銀行あて)またはクレジットカードを利用して支払うことができます。郵便振替以外の方法で支払う場合は必ず事前に事情を事務局にお問い合わせください

 

郵便振替口座 00140-1-433563

              フォトポリマーコンファレンス

ゆうちょ銀行 〇一九店 当座預金 0433563

 

参加登録費

            5月31日まで          6月1日以降

一般            ¥35,000円       ¥50,000円

学生            ¥10,000円       ¥25,000円

懇親会           ¥5,000円        ¥6,000円

本参加費は日本国在住者に適用されます。参加取消は書面にて申し出て下さい。5月31日までは、参加費の8割を返還致します。

 

 

 

Get Together 6月26日(月)17時より

懇親会 6月28日(水)18時より

 

第33回  国際フォトポリマーコンファレンス事務局

263-8522千葉市稲毛区弥生町1―33

千葉大学共生応用化学専攻 唐津 孝 Tel 043-290-3366

Fax 043-290-3401, e-mail: office@spst-photopolymer.org

 

 

フォトポリマー学会 (SPST)

会長:     津田 穣 

出版局長: 岡村晴之

企画局長: 遠藤政孝      

事務局長: 唐津 孝

国際局長: 渡邊健夫

ICPST-34国際諮問委員会 

Xavier Allonas (France), James Cameron (USA), Kilwon Cho (Korea), Danilo De Simone (Belgium), Sanjay Malik (USA),  Patrick Naulleau (USA),  

ICPST-34組織委員会  委員長:津田 穣*

委 員:東 司*、一木隆範*、上野 巧*、遠藤政孝*、老泉博昭*、大北英生*大西廉伸*、大山俊幸*岡村晴之*尾坂格*、柿本雅明*鴨志田洋一*唐津 孝*河合義夫*、木原尚子*、近藤伸一*、鈴木昭太* 関 修平*瀬下武広*、谷口淳*、富川真佐夫*永井智樹*、長崎幸夫*中村賢市郎*、永原誠司*長谷川悦雄*、平井義彦*、平山 拓*、堀邊英夫*、三澤毅秀*、水野 潤*、山下 俊*、渡邊健夫*、Robert Allen*, Wang Yueh*

*印 ICPST-34企画委員)

ICPST-34企画委員会 委員長:遠藤政孝

監査:葛谷昌之*

現地実行委員会 委員長:唐津 孝