国際フォトポリマーコンファレンスへのご招待

研究者の皆さん、

 

 組織委員を代表し、国際フォトポリマーコンファレンス(ICPST)へのご参加をお願い申し上げます。2017年のICPSTは、6月26日から29日まで、千葉市幕張メッセ国際会議場にて開催いたします。長い歴史の中で第34回目となる本会には、日本はもとより世界各地から、フォトポリマーやその関連領域で活動されている第一線の科学者、技術者の方々のご参加をお願いしています。

 

 シンポジウムでは、フォトポリマーに関する科学と技術の研究報告、特に光と物質の相互作用や、それを利用したプロセスに関連したアイデアや情報が発表され、討議されます。代表的な研究分野は以下の通りです。

 

A.英語シンポジウム

A1. Next Generation Lithography and Nanotechnology

A2. Nanobiotechnology

A3. Directed Self Assembly (DSA)

A4. Computational / Analysis Approach for Lithography Processes

A5. EUV Lithography

A6. Nanoimprint Lithography

A7. 193 nm Lithography Extension

A8. Photopolymers in 3-D Printing / Additive Manufacturing

A9. Advanced Materials for Photonic / Electronic Device and Technology

A10. Advanced 3D Packaging, Next Generation MEMS

A11. Chemistry for Advanced Photopolymer Science

A12. Organic Solar Cells - Materials, Device Physics, and Processes

A13. Fundamentals and Applications of Biomimetics Materials and Processes

A14. General Scopes of Photopolymer Science and Technology

P. Panel Symposium: "EUV Resist Sensitization and Roughness Improvement: Can We Get the Best of Both Worlds?"

 

B.日本語シンポジウム

B1. ポリイミド及び高温耐熱樹脂 - 機能化と応用

B2. プラズマ光化学と高分子表面機能化

B3. 光機能性デバイス材料

B4. 一般講演:

(1) 光物質科学の基礎(光物理過程,光化学反応など)

(2) 光機能素子材料(分子メモリー,情報記録材料,液晶 など)

(3) 光・レーザー・電子線を活用する合成・重合・パターニング

(4) フォトファブリケーション(光成形プロセス,リソグラフィ)

(5) レジスト除去技術

(6) 装置(光源,照射装置,計測,プロセスなど)

 

   

 千葉市は、首都東京の東部に位置する歴史と美しい環境を持ち、成田空港や羽田空港から世界の各地へと繋がる交通の要所でもあります。

 組織委員一同、この刺激的な学会で、皆さまと間もなくお会いできることを楽しみにしております。

会長 津田 穣

 

 

 

 

 

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シンポジウム会場

幕張メッセ