国際フォトポリマーコンファレンスへのご招待

研究者の皆さん、

 

 組織委員を代表し、国際フォトポリマーコンファレンス(ICPST)へのご参加をお願い申し上げます。2021年のICPSTは、世界的な新型コロナ肺炎の蔓延から研究者の皆さんの安全、健康を第一に考え、6月15日から17日まで、オンラインにて開催いたします。長い歴史の中で第38回目となる本会には、日本はもとより世界各地のフォトポリマーやその関連領域で活動されている第一線の科学者、技術者の方々がオンラインでご参加いただく初めての試みの学会となります。

 

 シンポジウムでは、フォトポリマーに関する科学と技術の研究報告、特に光と物質の相互作用や、それを利用したプロセスに関連したアイデアや情報が発表され、討議されます。代表的な研究分野は以下の通りです。

 

A.英語シンポジウム

A1. Next Generation Lithography and Nanotechnology

A2. Nanobiotechnology

A3. Directed Self Assembly (DSA)

A4. Computational / Analysis Approach for Lithography Processes

A5. EUV Lithography

A6. Nanoimprint 

A7. 193 nm Lithography Extension and EUV HVM Readiness

A8. Photopolymers in 3-D Printing / Additive Manufacturing

A9. 2D and Stimuli Responsive Materials for Electronics & Photonics

A10. Strategies and Materials for Advanced Packaging, Next Generation MEMS, Flexible Devices

A11. Chemistry for Advanced Photopolymer Science

A12. Organic and Hybrid Solar Cells - Materials, Device Physics, and Processes

A13. Fundamentals and Applications of Biomimetics Materials and Processes

A14. General Scopes of Photopolymer Science and Technology

P1.   Panel Symposium: "EUV Lithography toward  10 nm and below"

P2.   Panel Symposium: "Biomimetics: Learn from Nature"

 

B.日本語シンポジウム

B1. ポリイミド及び高温耐熱樹脂 - 機能化と応用

 

B2. 一般講演:

(1) 光物質科学の基礎 (光物理過程,光化学反応など)

(2) 光機能素子材料 (分子メモリー,情報記録材料,液晶 など)

(3) 光・レーザー・電子線を活用する合成・重合・パターニング

(4) フォトファブリケーション (光成形プロセス,リソグラフィ)

(5) レジスト除去,エッチング,洗浄

(6) 装置 (光源,照射装置,計測,プロセスなど)

 

   

 

 組織委員一同、この刺激的な学会で、皆さまと間もなくオンラインでお会いできることを楽しみにしております。

会長 津田 穣

 

 

 

 

 

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