フォトポリマー学会 理事会

 フォトポリマー学会理事会は、本学会の運営に必要な全ての事項の執行機関であって、現在、以下の5名で構成されている。

 


津田 穣 会長

千葉大学薬学部薬品物理化学講座教授を経て、現在、名誉教授。薬学博士(東京大学)。シュレデインガー方程式を解く方法と分子動力学を組み合わせる手法を駆使して、光化学、放射線化学、プラズマ化学、エピタキシャル成長、さらに生命分子科学の諸問題が、自然の必然性に導かれた化学素反応連鎖であることを原子レベルで解明し、200篇以上の論文を公刊した。また、フォトレジストをはじめとする実用問題の解決に40年間かかわり、100件を越す特許を確立した。1961年、通産省東京工業試験所で、当時唯一の微細加工用フォトレジストであったポリ桂皮酸ビニルの画期的新製造法(東工試法)を発明した。東工試法を用いると微細加工用フォトレジストが在来法の1/10のコストで生産できた。この国有特許はTOK(東京応化工業)に専用実施権が許諾され、TOKが世界最大のフォトレジストメーカーに発展する基礎となった。なお、1986年までのリソグラフィ関連の論文のかなりの部分が、Materials Science Reports,2,185-314(1987)に、まとめられている。

 

岡村 晴之 出版局長

1998年 “Synthesis and Properties of Fullerene-Containing Polymers with Well-Defined Structures” の論文で京都大学から博士(工学)の学位を受ける。1999-2011年大阪府立大学助手および助教。2009-2010年,Cornell University 客員研究員。Christopher K. Ober教授とのフォトレジストの共同研究。2011年から大阪府立大学准教授を務める。 2014年よりJ. Photopolym. Sci. Technol. の出版局長 を務める。研究分野は光開始剤、光硬化系、フォトレジストなど光機能性高分子。

 

 

遠藤 政孝 企画局長

現在,大阪大学産業技術研究所特任教授を務める。1981年京都大学卒業,1983年修士課程修了。1992年博士の学位(大阪大学)。 25年間以上にわたり,先端的レジストおよび半導体リソグラフィープロセスの開発研究に松下電器産業,パナソニック,大阪大学で従事してきた。ICPSTの企画局長としてコンファレンスの進展に貢献。.

 

 

渡邊 健夫 国際局長

現在,兵庫県立大学高度産業科学技術研究所所長と教授を兼務している。また、同研究所の極端紫外線リソグラフィ研究開発センター長も兼務している。 1990年に大阪市立大学大学院理学研究科後期博士課程を修了し、理学博士号を取得した。同年より、シャープ株式会社中央研究所にて、先端リソグラフィの開発に従事した。1996年に姫路工業大学(現 兵庫県立大学)の助手として赴任し、以来、極端紫外線リソグラフィの開発に従事し、露光装置、EUVマスク、EUVレジスト技術開発を推進し、現在に至る。

フォトポリマー国際会議では、組織委員会委員、企画委員会委員、EUVLシンポジウムチェアーを歴任し、2016年から国際局長を務める。

 

唐津 孝 事務局長 

現在,千葉大学大学院工学研究科にて教授を務める。 1981年に筑波大学第一学群自然学類卒業し,大学院化学研究科において修士と博士の学位を得る(徳丸克己研究室)。Utah大学およびTexas大学Austin校においてJosef Michl研究室において博士研究員を務めた後,筑波大学準研究員,助手,千葉大学講師,助教授を経て現職。研究分野は有機化合物,有機金属化合物の光化学,特に,光開始剤,フォトポリマー,有機電子材料(有機EL)などの光化学。

2013年より事務局長となる。2007年6号より Journal of photopolymer Science and Technology の編集委員を務めている。国際フォトポリマ-コンファレンス現地実行委員長も兼ねる。

2012-2013年,光化学協会の理事,2014-2015年,同常任理事,2012年から日本化学会の光化学ディビジョンの幹事も務めている。