講演募集 ICPST-38 (2021) オンライン会議

 第38回国際フォトポリマーコンファレンスを下記の要領で開催いたします。フォトポリマーに関心をお持ちの方々は是非、御参加下さい。

 

 

日  時  2021年6月15日(火)~17日(木)

 

オンラン会議

 

 

講演内容

 

フォトポリマーに関する科学と技術の研究報告

 

 

A:   英語シンポジウム

 

 

A1.    Next Generation Lithography, EB Lithography and Nanotechnology

 

A2.    Nanobiotechnology

 

A3.    Directed Self Assembly (DSA)

 

A4.    Computational / Analytical Approach for Lithography Processes

 

A5.    EUV Lithography

 

A6.    Nanoimprint

 

A7.    193 nm Lithography Extension and EUV HVM Readiness

 

A8.    Photopolymers in 3-D Printing / Additive Manufacturing

 

A9.    2D and Stimuli Responsive Materials for Electronics & Photonics

 

A10.  Strategies and Materials for Advanced Packaging, Next Generation MEMS, Flexible Devices

 

A11.  Chemistry for Advanced Photopolymer Science

 

A12.  Organic and Hybrid Solar Cells – Materials, Device Physics, and Processes

 

A13.  Fundamentals and Applications of Biomimetics Materials and Processes

 

A14.  General Scopes of Photopolymer Science and Technology

 

 

P:   Panel Symposium

 

    P1     "EUV Lithography toward10nm and below"

 

    P2     "Biomimetics: Learn from Nature"

 

 

 

B:  日本語シンポジウム

 

B1.    ポリイミド及び高温耐熱樹脂-機能化と応用

 

B2.   一般講演: (1) 光物質科学の基礎 (光物理過程、光化学反応など)

(2) 光機能素子材料 (分子メモリー、情報記録材料、液晶 など)、

(3) 光・レーザー・電子線を活用する合成・重合・パターニング、

(4) フォトファブリケーション (光成形プロセス、リソグラフィ)、

(5) レジスト除去、エッチング、洗浄、

(6) 装置 (光源、照射装置、計測、プロセスなど)

 

 

講演時間と言語  原則として討論時間を含め20分。英語シンポジウムは英語、日本語シンポジウムは日本語及び英語

 

講演申込:学会HP(www.spst-photopolymer.org/)

 

[講演募集ICPST-38 → 日本語会場発表申し込み] から申し込んでください。

 

申込締切 2021年2月14日(日)

 

 

論文の出版 

 

ICPST-38 の論文はJournal of Photopolymer Science and Technology Vol.34(2021)にJournal基準による審査を経て出版されます。

 

論文原稿は、Journal投稿規定に従って完全原稿を作成し、2021年4月1日(木)までに提出して下さい。

 

学会HP(http://www.spst-photopolymer.org/)の [Journal à Submission& Reviewing of MS] に投稿してください。

 

JPST Vol. 34はICPST-38開催前に郵送いたします。

 

 

出版局事務局

 

〒078-8510 北海道旭川市緑が丘東2条1丁目1-1

 

旭川医科大学 一般教育 化学教室

 

眞山博幸

 

Tel: 0166-68-2726, Fax: 0166-68-2782

 

E-mail: mayama@asahikawa-med.ac.jp

 

 

 

参加申込予約締切 2021年5月25日(火)

 

 

 

参加登録方法:

 講演者を含む全参加者はフォトポリマー学会の学会HP(http://www.spst-photopolymer.org/日本語ページ/参加登録/)より

 

登録ください。参加費支払は原則として郵便振替により行ってください。特別な事情があるときは振替口座への送金

 

(ゆうちょ銀行あて)またはクレジットカードを利用して支払うことができます。

 

郵便振替以外の方法で支払う場合は必ず事前に事情を事務局にお知らせください。   

 

 

郵便振替口座 00140-1-433563

 

             フォトポリマーコンファレンス

 

 ゆうちょ銀行 〇一九店 当座預金 0433563

 

 

 

参加登録費

 

区   分                    5月25日まで         

 

一般                    ¥35,000円     

 

学生                    ¥10,000円     

 

本参加費は日本国在住者に適用されます。参加取消は書面にて申し出て下さい。5月25日までは、参加費の8割を返還致します。

 

 

 

第38回  国際フォトポリマーコンファレンス事務局

 

ICPST-38

 

〒263-8522千葉市稲毛区弥生町1―33 

 

千葉大学共生応用化学専攻 唐津 孝 Tel 043-290-3366 

 

Fax 043-290-3401, e-mail: office@spst-photopolymer.org

 

 

 

フォトポリマー学会 (SPST)

 

会長:       津田 穣 

 

出版局長: 眞山博幸

 

企画局長: 遠藤政孝      

 

事務局長: 唐津 孝

 

国際局長: 渡邊健夫

 

 

 

ICPST-38国際諮問委員会 

 

Danilo De Simone (Belgium)

 

Sanjay Malik (USA)

 

Patrick Naulleau (USA)

 

Yusuf Yagci (Turkey) 

 

 

ICPST-38組織・企画委員会  

 

組織委員長:津田 穣   企画委員長:遠藤政孝

 

委員:東 司、荒木 斉、一木隆範、上野 巧、遠藤政孝、老泉博昭、大北英生、 大西廉伸、岡村晴之、尾坂 格、柿本雅明、唐津 孝、河合義夫、工藤宏人、 葛谷昌之、近藤伸一、渋谷明規、関 修平、関口 淳、瀬下武弘、曽我公平、 竹井邦晴、谷口 淳、津田 穣、永井智樹、永原誠司、西野朋季、早川晃鏡、平井義彦、平野 孝、 平山 拓、堀邊英夫、眞山博幸、水野 潤、山下 俊、渡邊健夫、Robert Allen、 Wang Yueh

 

監査 葛谷昌之

 

現地実行委員会     委員長:唐津 孝