講演募集　ICPST-38 (2021) オンライン会議

 第３８回国際フォトポリマーコンファレンスを下記の要領で開催いたします。フォトポリマーに関心をお持ちの方々は是非、御参加下さい。

 

 

日  時：  ２０２１年６月１５日（火）～１６日（水）

 

 オンライン会議

 

講演内容

 

フォトポリマーに関する科学と技術の研究報告

 

 

A:   英語シンポジウム

 

    A1.    Next Generation Lithography, EB Lithography and Nanotechnology

 

    A2.    Nanobiotechnology

 

    A3.    Directed Self Assembly (DSA)

 

    A4.    Computational / Analytical Approach for Lithography Processes

 

    A5.    EUV Lithography

 

    A6.    Nanoimprint

 

    A7.    193 nm Lithography Extension and EUV HVM Readiness

 

    A8.    Photopolymers in 3-D Printing / Additive Manufacturing

 

    A9.    2D and Stimuli Responsive Materials for Electronics & Photonics

 

    A10.  Strategies and Materials for Advanced Packaging, Next Generation MEMS, Flexible Devices

 

    A11.  Chemistry for Advanced Photopolymer Science

 

    A12.  Organic and Hybrid Solar Cells – Materials, Device Physics, and Processes

 

    A13.  Fundamentals and Applications of Biomimetics Materials and Processes

 

P:   Panel Symposium

 

    P1     “EUV Lithography toward 10 nm and below　– Prospect of Achievement for Both Highly Sensitive and low LWR EUV Resist “

 

    P2     "Biomimetics: Learn from Nature"

 

B:  日本語シンポジウム

 

    B1.    ポリイミド及び高温耐熱樹脂-機能化と応用

 

    B2.   一般講演:

(１) 光物質科学の基礎 (光物理過程、光化学反応など)

(２) 光機能素子材料 (分子メモリー、情報記録材料、液晶 など)

(３) 光・レーザー・電子線を活用する合成・重合・パターニング

(４) フォトファブリケーション (光成形プロセス、リソグラフィ)

(５) レジスト除去、エッチング、洗浄

(６) 装置 (光源、照射装置、計測、プロセスなど)

 

 

講演時間と言語

 

原則として討論時間を含め２０分。英語シンポジウムは英語、日本語シンポジウムは日本語及び英語

 

 

講演申込

 

[日本語ページ → 日本語講演発表申込] からお申し込みください。

 

申込締切：２０２１年２月１４日（日）

 

 

論文の出版　

 

ICPST-38 の論文はJournal of Photopolymer Science and Technology Vol．34（2021)にJournal基準による審査を経て出版されます。

 

論文原稿は、Journal投稿規定に従って完全原稿を作成し、２０２１年４月１日（木）までに学会HP（http://www.spst-photopolymer.org/)の [Journal → Submission& Reviewing of MS] に投稿してください。

 

JPST Vol. 34はICPST-38開催前に郵送いたします。

 

 

出版局事務局

 

〒078-8510 北海道旭川市緑が丘東2条1丁目1－1

 

旭川医科大学 一般教育 化学教室

 

眞山博幸

 

Tel: 0166-68-2726, Fax: 0166-68-2782

 

E-mail: mayama@asahikawa-med.ac.jp

 

 

 

参加登録予約締切

 

早期登録期間：２０２１年２月１日（月）１７：００（JST）～５月２５日（火）２３：５９（JST）

 

*５月２５日（火）までに参加登録と決済まで完了された方には、会期前までに論文集（Journal Vol.34 (2021)）を郵送いたします。

 

参加登録期間：２０２１年５月２６日（水）００：００（JST）～６月１６日（水）２３：５９（JST）

 

 

参加登録方法

 

講演者を含む全参加者はフォトポリマー学会の学会HP（www.spst-photopolymer.org/）[日本語ページ → 参加登録]より登録をお願い致します。

参加費支払はクレジットカード払いのみとなっております。

 

・お支払い完了後のキャンセルは一切受け付けておりません。

・請求書は発行しておりません。

・郵便振込ではお支払いただけませんのでご注意ください。

 

 

参加登録費

 

区   分                      

 

一般                    ￥３５，０００円　    

 

学生                    ￥１０，０００円　    

 

本参加費は日本国在住者に適用されます。

 

 

第３８回  国際フォトポリマーコンファレンス事務局

 

ICPST-38

 

〒263-8522千葉市稲毛区弥生町１―３３ 

 

千葉大学共生応用化学専攻　唐津　孝 Tel 043-290-3366 

 

Fax 043-290-3401， e-mail: office@spst-photopolymer.org

 

 

フォトポリマー学会 (SPST)

 

会長：       津田　穣 

 

出版局長： 眞山博幸

 

企画局長： 遠藤政孝      

 

事務局長： 唐津　孝

 

国際局長： 渡邊健夫

 

 

ICPST-38国際諮問委員会　

 

Danilo De Simone (Belgium)

 

Sanjay Malik (USA)

 

Patrick Naulleau (USA)

 

Yusuf Yagci (Turkey) 

 

 

ICPST-38組織・企画委員会  

 

組織委員長：津田　穣　　　企画委員長：遠藤政孝

 

委員：東 司、荒木 斉、一木隆範、上野 巧、遠藤政孝、老泉博昭、大北英生、 大西廉伸、岡村晴之、尾坂 格、柿本雅明、唐津 孝、河合義夫、工藤宏人、 葛谷昌之、近藤伸一、渋谷明規、関 修平、関口 淳、瀬下武弘、曽我公平、 竹井邦晴、谷口 淳、津田　穣、永井智樹、永原誠司、西野朋季、早川晃鏡、平井義彦、平野 孝、 平山 拓、堀邊英夫、眞山博幸、水野 潤、山下 俊、渡邊健夫、Robert Allen、 Wang Yueh、山川進二

 

 

監査　葛谷昌之

 

 

現地実行委員会　    委員長：唐津　孝

 

 

 

 

 

Appendix-1