講演募集 ICPST-39 (2022)

 第39回国際フォトポリマーコンファレンスを下記の要領で開催いたします。フォトポリマーに関心をお持ちの方々は是非、御参加下さい。

 

 

日  時:  2022年6月27日(月)28日(火)~30日(木)

 

 場: 千葉市美浜区中瀬2-1

幕張メッセ国際会議場 (JR海浜幕張下車徒歩5分)

オンライン開催(新型コロナウイルス感染防止のため)

 

講演内容

 

フォトポリマーに関する科学と技術の研究報告

 

 

A:   英語シンポジウム

 

    A1.    Next Generation Lithography, EB Lithography and Nanotechnology

 

    A2.    Nanobiotechnology

 

    A3.    Directed Self Assembly (DSA)

 

    A4.    Computational / Analytical Approach for Lithography Processes

 

    A5.    EUV Lithography

 

    A6.    Nanoimprint

 

    A7.    193 nm Lithography Extension and EUV HVM Readiness

 

    A8.    Photopolymers in 3-D Printing / Additive Manufacturing

 

    A9.    2D and Stimuli Responsive Materials for Electronics & Photonics

 

    A10.  Strategies and Materials for Advanced Packaging, Next Generation MEMS, Flexible Devices

 

    A11.  Chemistry for Advanced Photopolymer Science

 

    A12.  Organic and Hybrid Solar Cells – Materials, Device Physics, and Processes

 

    A13.  Fundamentals and Applications of Biomimetics Materials and Processes

  

    A14.  General Scopes of Photopolymer Science and Technology

 

P:   Panel Symposium

 

    P1     “Beyond Sub-10 nm Lithography – From a Material Design and Development Perspective

   

B:  日本語シンポジウム

 

    B1.    ポリイミド及び高温耐熱樹脂ー機能化と応用ー

 

    B2.   プラズマ光化学と高分子表面機能化

 

    B3.   一般講演:

(1) 光物質科学の基礎 (光物理過程、光化学反応など)

(2) 光機能素子材料 (分子メモリー、情報記録材料、液晶 など)

(3) 光・レーザー・電子線を活用する合成・重合・パターニング

(4) フォトファブリケーション (光成型プロセス、リソグラフィ)

(5) レジスト除去、エッチング、洗浄

(6) 装置 (光源、照射装置、計測、プロセスなど)

 

 

講演時間と言語

 

原則として討論時間を含め20分。英語シンポジウムは英語、日本語シンポジウムは日本語及び英語

 

 

講演申込

学会ホームページ (https://www.spst-photopolymer.org/) [講演募集ICPST-39日本語会場発表申し込み]から申し込んでください。

 

申込締切:2022年1月20日(木)00:00, JST ~ 2月14日 28日 3月20日(月)23:59, JST まで期間を延長します。

再延長はご御座いませんので、期限厳守でお願い致します。

 

 

論文の出版

ICPST-39の論文はJournal of Photopolymer Science and  Technology Vol352022)にJournal基準による審査を経て出版されます。 論文原稿は、完全原稿を作成し、2022年4月1日(金)までに学会ホームページ(https://www.spst-photopolymer.org/)[JournalSubmission&Reviewing of MS] に投稿してください。 

 

原稿締切:2022年4月1日(金)

 

フォトポリマー学会出版局

078-8510 北海道旭川市緑が丘東21丁目11

旭川医科大学 一般教育 化学教室  眞山博幸

Tel: 0166-68-2726, Fax: 0166-68-2782

  E-mail: mayama@asahikawa-med.ac.jp 

 

参加申込予約締切

講演者を含む全参加者はフォトポリマー学会のホームページ(https://www.spst-photopolymer.org/講演募集icpst-39-2022/参加登録/)より登録ください。

 

登録締切:2022年2月1日(月)15:00, JST ~ 6月26日(日)23:59, JST

 

参加登録費(一般) ¥35,000 

参加登録費(学生) ¥10,000

 

5月末日までに参加登録されることを推奨します。

 

第39回  国際フォトポリマーコンファレンス事務局

263-8522 千葉市稲毛区弥生町1-33

千葉大学工学研究院共生応用化学コース 唐津 孝

Tel 043-290-3366, Fax 043-290-3401

    E-mail: office@spst-photopolymer.org   

 

展示会

 

 コンファレンス期間中展示会を併設します。展示会出展企業を募集いたします。事務局に申し込みまたはお問い合わせ下さい。

 

 

 

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