講演募集　ICPST-39 (2022)

第３９回国際フォトポリマーコンファレンスを下記の要領で開催いたします。フォトポリマーに関心をお持ちの方々は是非、御参加下さい。

日時： ２０２２年６月~~２７日（月）~~２８日（火）～３０日（木）

会場：　~~千葉市美浜区中瀬２－１~~

~~幕張メッセ国際会議場 (JR海浜幕張下車徒歩５分)~~

オンライン開催（新型コロナウイルス感染防止のため）

講演内容

フォトポリマーに関する科学と技術の研究報告

A: 英語シンポジウム

A1. Next Generation Lithography, EB Lithography and Nanotechnology

A2. Nanobiotechnology

A3. Directed Self Assembly (DSA)

A4. Computational / Analytical Approach for Lithography Processes

A5. EUV Lithography

A6. Nanoimprint

A7. 193 nm Lithography Extension and EUV HVM Readiness

A8. Photopolymers in 3-D Printing / Additive Manufacturing

A9. 2D and Stimuli Responsive Materials for Electronics & Photonics

A10. Strategies and Materials for Advanced Packaging, Next Generation MEMS, Flexible Devices

A11. Chemistry for Advanced Photopolymer Science

A12. Organic and Hybrid Solar Cells – Materials, Device Physics, and Processes

A13. Fundamentals and Applications of Biomimetics Materials and Processes

A14. General Scopes of Photopolymer Science and Technology

P: Panel Symposium

P1 “Beyond Sub-10 nm Lithography – From a Material Design and Development Perspective–“

B: 日本語シンポジウム

B1. ポリイミド及び高温耐熱樹脂ー機能化と応用ー

B2. プラズマ光化学と高分子表面機能化

B3. 一般講演:

(１) 光物質科学の基礎 (光物理過程、光化学反応など)

(２) 光機能素子材料 (分子メモリー、情報記録材料、液晶など)

(３) 光・レーザー・電子線を活用する合成・重合・パターニング

(４) フォトファブリケーション (光成型プロセス、リソグラフィ)

(５) レジスト除去、エッチング、洗浄

(６) 装置 (光源、照射装置、計測、プロセスなど)

講演時間と言語

原則として討論時間を含め２０分。英語シンポジウムは英語、日本語シンポジウムは日本語及び英語

講演申込

学会ホームページ (https://www.spst-photopolymer.org/) [講演募集ICPST-39→日本語会場発表申し込み]から申し込んでください。

申込締切：２０２２年１月２０日（木）00:00, JST ～ ~~２月１４日　２８日~~　３月２０日（月）23:59, JST　まで期間を延長します。

再延長はご御座いませんので、期限厳守でお願い致します。

論文の出版

ICPST-39の論文はJournal of Photopolymer Science and Technology Vol．35（2022）にJournal基準による審査を経て出版されます。論文原稿は、完全原稿を作成し、２０２２年４月１日（金）までに学会ホームページ(https://www.spst-photopolymer.org/) の [Journal→Submission&Reviewing of MS] に投稿してください。　