第39回国際フォトポリマーコンファレンスを下記の要領で開催いたします。フォトポリマーに関心をお持ちの方々は是非、御参加下さい。
日 時: 2022年6月27日(月)28日(火)~30日(木)
会 場: 千葉市美浜区中瀬2-1
幕張メッセ国際会議場 (JR海浜幕張下車徒歩5分)
オンライン開催(新型コロナウイルス感染防止のため)
講演内容
フォトポリマーに関する科学と技術の研究報告
A: 英語シンポジウム
A1. Next Generation Lithography, EB Lithography and Nanotechnology
A2. Nanobiotechnology
A3. Directed Self Assembly (DSA)
A4. Computational / Analytical Approach for Lithography Processes
A5. EUV Lithography
A6. Nanoimprint
A7. 193 nm Lithography Extension and EUV HVM Readiness
A8. Photopolymers in 3-D Printing / Additive Manufacturing
A9. 2D and Stimuli Responsive Materials for Electronics & Photonics
A10. Strategies and Materials for Advanced Packaging, Next Generation MEMS, Flexible Devices
A11. Chemistry for Advanced Photopolymer Science
A12. Organic and Hybrid Solar Cells – Materials, Device Physics, and Processes
A13. Fundamentals and Applications of Biomimetics Materials and Processes
A14. General Scopes of Photopolymer Science and Technology
P: Panel Symposium
P1 “Beyond Sub-10 nm Lithography – From a Material Design and Development Perspective–“
B: 日本語シンポジウム
B1. ポリイミド及び高温耐熱樹脂ー機能化と応用ー
B2. プラズマ光化学と高分子表面機能化
B3. 一般講演:
(1) 光物質科学の基礎 (光物理過程、光化学反応など)
(2) 光機能素子材料 (分子メモリー、情報記録材料、液晶 など)
(3) 光・レーザー・電子線を活用する合成・重合・パターニング
(4) フォトファブリケーション (光成型プロセス、リソグラフィ)
(5) レジスト除去、エッチング、洗浄
(6) 装置 (光源、照射装置、計測、プロセスなど)
講演時間と言語
原則として討論時間を含め20分。英語シンポジウムは英語、日本語シンポジウムは日本語及び英語
講演申込
学会ホームページ (https://www.spst-photopolymer.org/) [講演募集ICPST-39→日本語会場発表申し込み]から申し込んでください。
申込締切:2022年1月20日(木)00:00, JST ~ 2月14日 28日 3月20日(月)23:59, JST まで期間を延長します。
再延長はご御座いませんので、期限厳守でお願い致します。
論文の出版
ICPST-39の論文はJournal of Photopolymer Science and Technology Vol.35(2022)にJournal基準による審査を経て出版されます。 論文原稿は、完全原稿を作成し、2022年4月1日(金)までに学会ホームページ(https://www.spst-photopolymer.org/) の [Journal→Submission&Reviewing of MS] に投稿してください。
原稿締切:2022年4月1日(金)
フォトポリマー学会出版局
〒078-8510 北海道旭川市緑が丘東2条1丁目1-1
旭川医科大学 一般教育 化学教室 眞山博幸
Tel: 0166-68-2726, Fax: 0166-68-2782
E-mail: mayama@asahikawa-med.ac.jp
参加申込予約締切
講演者を含む全参加者はフォトポリマー学会のホームページ(https://www.spst-photopolymer.org/講演募集icpst-39-2022/参加登録/)より登録ください。
登録締切:2022年2月1日(月)15:00, JST ~ 6月26日(日)23:59, JST
参加登録費(一般) ¥35,000
参加登録費(学生) ¥10,000
5月末日までに参加登録されることを推奨します。
第39回 国際フォトポリマーコンファレンス事務局
〒263-8522 千葉市稲毛区弥生町1-33
千葉大学工学研究院共生応用化学コース 唐津 孝
Tel 043-290-3366, Fax 043-290-3401
E-mail: office@spst-photopolymer.org
展示会
コンファレンス期間中展示会を併設します。展示会出展企業を募集いたします。事務局に申し込みまたはお問い合わせ下さい。