講演募集　ICPST-39 (2022)

 第３９回国際フォトポリマーコンファレンスを下記の要領で開催いたします。フォトポリマーに関心をお持ちの方々は是非、御参加下さい。

 

 

日  時：  ２０２２年６月２７日（月）～３０日（木）

 

詳細は決定後にお知らせします。

 

講演内容

 

フォトポリマーに関する科学と技術の研究報告

 

 

A:   英語シンポジウム

 

    A1.    Next Generation Lithography, EB Lithography and Nanotechnology

 

    A2.    Nanobiotechnology

 

    A3.    Directed Self Assembly (DSA)

 

    A4.    Computational / Analytical Approach for Lithography Processes

 

    A5.    EUV Lithography

 

    A6.    Nanoimprint

 

    A7.    193 nm Lithography Extension and EUV HVM Readiness

 

    A8.    Photopolymers in 3-D Printing / Additive Manufacturing

 

    A9.    2D and Stimuli Responsive Materials for Electronics & Photonics

 

    A10.  Strategies and Materials for Advanced Packaging, Next Generation MEMS, Flexible Devices

 

    A11.  Chemistry for Advanced Photopolymer Science

 

    A12.  Organic and Hybrid Solar Cells – Materials, Device Physics, and Processes

 

    A13.  Fundamentals and Applications of Biomimetics Materials and Processes

 

 

    A14.  General Scopes of Photopolymer Science and Technology

 

P:   Panel Symposium

 

    P1     “Beyond Sub-10 nm Lithography – From a Material Design and Development Perspective–“

 

    P2     "Biomimetics: Learn from Nature"

 

B:  日本語シンポジウム

 

    B1.    ポリイミド及び高温耐熱樹脂ー機能化と応用ー

 

    B2.   プラズマ光化学と高分子表面機能化

 

    B3.   一般講演:

(１) 光物質科学の基礎 (光物理過程、光化学反応など)

(２) 光機能素子材料 (分子メモリー、情報記録材料、液晶 など)

(３) 光・レーザー・電子線を活用する合成・重合・パターニング

(４) フォトファブリケーション (光成型プロセス、リソグラフィ)

(５) レジスト除去、エッチング、洗浄

(６) 装置 (光源、照射装置、計測、プロセスなど)

 

 

講演時間と言語

 

原則として討論時間を含め２０分。英語シンポジウムは英語、日本語シンポジウムは日本語及び英語

 

 

講演申込

 

申込締切：２０２２年２月１４日（月）

 

 

論文の出版　

 

原稿締切：２０２２年４月１日（金）

 

 

 

参加申込予約締切

 

早期登録締切：２０２２年２月１日（月）～５月２５日（水）