フォトポリマー学会(SPST)組織


ICPST-40国際諮問委員会

Banilo De Simone

Belgium

Sanjay Malik

USA

Patrick Naulleau

USA


ICPST-40組織委員会

国際会議実行委員

早川晃鏡

東京工業大学

渡邊健夫

兵庫県立大学

遠藤政孝

大阪大学

唐津 孝

千葉大学

工藤宏人

関西大学

近藤伸一

岐阜薬科大学

関口 淳

リソテックジャパン(株)

竹井邦晴

北海道大学

永原誠司

東京エレクトロン(株)

山川進二

兵庫県立大学

山本雅史

香川高専

 

国際学術誌出版委員

岡村晴之

大阪公立大学

遠藤政孝

大阪大学

大北英生

京都大学

関 修平

大阪大学

瀬下武広

東京応化工業(株)

平野 孝

住友ベークライト(株)

平山 拓

HOYA(株)

眞山博幸

旭川医科大学

室崎喬之

旭川医科大学

堀邊英夫

大阪公立大学

栗原一真

産総研

 

国際学術賞委員

尾坂 格

広島大学

津田 穣

千葉大学

遠藤政孝

大阪大学

一木隆範

東京大学

荒木 斉

東レ(株)

河合義夫

信越化学(株)

渋谷明規

フジフイルム(株)

谷口 淳

東京理科大学

永井智樹

JSR(株)

平井義彦

大阪公立大学

山下 俊

東京工科大学

 

組織委員

葛谷昌之

中部学院大学

曽我 公平

東京理化大学

Robert Allen

IBM

Wang Yueh

Intel

 


監査  

    上野 巧  信州大学