講演募集　ICPST-40 (2023)

 第４０回国際フォトポリマーコンファレンスを下記の要領で開催いたします。フォトポリマーに関心をお持ちの方々は是非、御参加下さい。

 

 

日  時：  ２０２３年６月２７日（火）～３０日（金）

 

会 場： ハイブリッド開催（現地&Zoom)

千葉市美浜区中瀬２－１

 

幕張メッセ国際会議場 (JR海浜幕張下車徒歩５分)

 

講演内容

 

フォトポリマーに関する科学と技術の研究報告

 

 

A:   英語シンポジウム

 

    A1.    Next Generation Lithography, EB Lithography and Nanotechnology

 

    A2.    Nanobiotechnology

 

    A3.    Directed Self Assembly (DSA)

 

    A4.    Computational / Analytical Approach for Lithography Processes

 

    A5.    EUV Lithography

 

    A6.    Nanoimprint

 

    A7.    193 nm Lithography Extension and EUV HVM Readiness

 

    A8.    Photopolymers in 3-D Printing / Additive Manufacturing

 

    A9.    2D and Stimuli Responsive Materials for Electronics & Photonics

 

    A10.  Strategies and Materials for Advanced Packaging, Next Generation MEMS, Flexible Devices

 

    A11.  Chemistry for Advanced Photopolymer Science

 

    A12.  Organic and Hybrid Solar Cells – Materials, Device Physics, and Processes

 

    A13.  Fundamentals and Applications of Biomimetics Materials and Processes

  

    A14.  General Scopes of Photopolymer Science and Technology

 

P:   Panel Symposium

 

    P      “Panel Symposium“

   

B:  日本語シンポジウム

 

    B1.    ポリイミド及び高温耐熱樹脂ー機能化と応用ー

 

    B2.   プラズマ光化学と高分子表面機能化

 

    B3.   一般講演:

(１) 光物質科学の基礎 (光物理過程、光化学反応など)

(２) 光機能素子材料 (分子メモリー、情報記録材料、液晶 など)

(３) 光・レーザー・電子線を活用する合成・重合・パターニング

(４) フォトファブリケーション (光成型プロセス、リソグラフィ)

(５) レジスト除去、エッチング、洗浄

(６) 装置 (光源、照射装置、計測、プロセスなど)

 

 

講演時間と言語

 

原則として討論時間を含め２０分。英語シンポジウムは英語、日本語シンポジウムは日本語及び英語

 

 

 

 

講演申込

学会ホームページ (https://www.spst-photopolymer.org/) [日本語講演発表申込]から申し込んでください。

 

申込締切：２０２３年１月１５日（日）00:00, JST ～ ２月１４日（火） -> ３月８日（火）23:59, JST （延長しました）

 

 

 

 

論文の出版

ICPST-40の論文はJournal of Photopolymer Science and  Technology Vol．36（2023）にJournal基準による審査を経て出版されます。 論文原稿は、完全原稿を作成し、２０２3年４月１日（土）までに学会ホームページ(https://www.spst-photopolymer.org/) の [Journal→Submission&Reviewing of MS] に投稿してください。　

 

原稿締切：２０２３年４月１日（土）

 

フォトポリマー学会出版局

〒078-8510 北海道旭川市緑が丘東2条1丁目1－1

旭川医科大学 一般教育 化学教室  眞山博幸

Tel: 0166-68-2726, Fax: 0166-68-2782

  Ｅ-mail: mayama(at)asahikawa-med.ac.jp 

 

 

 

 

参加申込予約締切

講演者を含む全参加者はフォトポリマー学会のホームページ(https://www.spst-photopolymer.org/)[参加登録]より登録ください。

 

登録締切：２０２３年２月１日（水）15:00, JST　～

 

 

早期申し込み　2023年5月31日まで

参加登録費（一般）　￥45,000

参加登録費（学生）　￥10,000

 

普通申し込み　2023年6月1日以降

参加登録費（一般）　￥60,000

参加登録費（学生）　￥15,000

 

 

懇親会

￥5,000

 

 

 

第40回  国際フォトポリマーコンファレンス事務局

 

〒564-8680 大阪府吹田市山手町3-3-35

関西大学 化学生命工学部 工藤 宏人

 

Tel 06-6368-1977, Fax 06-6368-1977

    E-mail: kudoh(at)kansai-u.ac.jp   

 

 

展示会

　コンファレンス期間中展示会を併設します。展示会出展企業を募集いたします。事務局に申し込みまたはお問い合わせ下さい。

　展示スペース（1ブース）は

　・幅180 cm×奥行き60 cmのテーブル

　・ボード

　・照明

　・椅子

　をご用意いたします。

　出展費用：\60,000 (1ブース）