講演募集 ICPST-41 (2024)
第４1回国際フォトポリマーコンファレンスを下記の要領で開催いたします。
フォトポリマーに関心をお持ちの方々は是非、御参加下さい。
日 時： ２０２４年６月２５日（火）～２８日（金）
会 場： 現地開催
千葉市美浜区中瀬２－１
幕張メッセ国際会議場 (JR海浜幕張下車徒歩５分)
講演内容
フォトポリマーに関する科学と技術の研究報告
A: 英語シンポジウム
A1. Next Generation Lithography, EB Lithography and Nanotechnology
A2. Nanobiotechnology
A3. Directed Self Assembly (DSA)
→Self-Assembly Materials and Processes (DSA, BCP, SAM, ASD, Infiltration, Nanostructured Materials, Advanced Devices using Self Assembly, etc.)
A4. Computational / Analytical Approach for Lithography Processes
A5. EUV Lithography
A6. Nanoimprint
A7. 193 nm Lithography Extension
A8. Photopolymers in 3-D Printing / Additive Manufacturing
A9. 2D and Stimuli Responsive Materials for Electronics & Photonics
A10. Strategies and Materials for Advanced Packaging, Next Generation MEMS, Flexible Devices
A11. Chemistry for Advanced Photopolymer Science
A12. Organic and Hybrid Solar Cells – Materials, Device Physics, and Processes
A13. Fundamentals and Applications of Biomimetics Materials and Processes
A14. Polyimides and High Thermally Stable Resins -Functionalization and Practical Applications-
A15. General Scopes of Photopolymer Science and Technology
P: Panel Symposium
P. “Panel Symposium“
B: 日本語シンポジウム
B1. ポリイミド及び高温耐熱樹脂ー機能化と応用ー
A14と併設開催（英語発表を希望の場合A14に申し込みをお願いします）
B2. プラズマ光化学と高分子表面機能化
B3. 一般講演:
(１) 光物質科学の基礎 (光物理過程、光化学反応など)
(２) 光機能素子材料 (分子メモリー、情報記録材料、液晶 など)
(３) 光・レーザー・電子線を活用する合成・重合・パターニング
(４) フォトファブリケーション (光成型プロセス、リソグラフィ)
(５) レジスト除去、エッチング、洗浄
(６) 装置 (光源、照射装置、計測、プロセスなど)
講演時間と言語
原則として討論時間を含め２０分。英語シンポジウムは英語、日本語シンポジウムは日本語及び英語
講演申込
学会ホームページ (https://www.spst-photopolymer.org/) [日本語講演発表申込]から申し込んでください。
申込締切：２０２４年２月１４日（水）
論文の出版
ICPST-41の論文はJournal of Photopolymer Science and Technology Vol．3７（2024）にJournal基準による審査を経て出版されます。 論文原稿は、完全原稿を作成し、２０２４年４月１日（月）までに学会ホームページ(https://www.spst-photopolymer.org/) の [Journal→Submission&Reviewing of MS] に投稿してください。
原稿締切：２０２４年４月１日（月）
フォトポリマー学会出版局
〒599-8531 大阪府堺市中区学園町1－1
大阪公立大学大学院工学研究科応用化学分野 岡村晴之
Tel: 072-254-9291, Fax: 072-254-9291
E-mail: okamura@omu.ac.jp
参加申込予約締切
講演者を含む全参加者はフォトポリマー学会のホームページ(https://www.spst-photopolymer.org/)[参加登録]より登録ください。
登録締切：
早期申し込み 2024年5月31日まで
参加登録費（一般） ￥65,000
参加登録費（学生） ￥10,000
普通申し込み 2024年6月1日以降
参加登録費（一般） ￥80,000
参加登録費（学生） ￥15,000
懇親会
￥5,000
※昨今の物価高騰および継続的な運営を考慮して、SPSTの会費を値上げすることに致しました。
第41回 国際フォトポリマーコンファレンス事務局
〒564-8680 大阪府吹田市山手町3-3-35
関西大学 化学生命工学部 工藤 宏人
Tel 06-6368-1977, Fax 06-6368-1977
E-mail: kudoh(at)kansai-u.ac.jp
展示会
コンファレンス期間中展示会を併設します。展示会出展企業を募集いたします。事務局に申し込みまたはお問い合わせ下さい。
展示スペース（1ブース）は
・幅180 cm×奥行き60 cmのテーブル
・ボード
・照明
・椅子
をご用意いたします。
出展費用：\60,000 (1ブース）
